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切割機噴砂生產配方工藝,生產工藝,制備方法,加工工

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更新時間:2019-11-17 產品編號:140199009
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公司信息

成華區鼎康商務信息咨詢服務部(個體)

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產品詳情

產品名稱:切割機噴砂生產配方工藝,生產工藝,制備方法,加工工

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以下資料均為專業技術,如下為此套技術的目錄及簡要介紹信息。具體內容包括:化工、建材、食品、農林、醫藥等材料類技術均包括技術配方、配比、生產工藝、制作方法、實施案例等詳細內容;機械設備類包括設計原理、設計構造、原理圖,剖面圖及其圖解說明。也包括其技術所有人的聯系方式,有需要技術合作或者轉讓者可直接與技術所有人聯系洽談。資料可以在線發送,也可以郵寄光盤或者U盤,U盤多30元。
51、在流體中形成的等離子體
52、在流體中形成的等離子體
53、等離子體輔助碳結構的形成
54、等離子體CVD薄膜形成設備以及制造鍍覆有CVD薄膜的塑料容器的方法
55、在隔板之間形成搭接的自動脈沖等離子體焊接方法和裝置
56、銅與等離子體改性后的碳纖維結合形成的新型銅
57、鋁與等離子體改性后的碳纖維結合形成的泡沫鋁
58、鐵與等離子體改性后的碳纖維結合形成的新型鐵
59、與等離子體改性后的碳纖維結合形成的新型橡膠
60、與等離子體改性后的碳纖維結合形成的新型塑料
61、鋁與等離子體改性后的碳纖維結合形成的蜂窩鋁
62、鋁與等離子體改性后的碳纖維結合形成的發泡鋁
63、用低能量等離子體增強化學氣相沉積法形成高遷移率硅鍺結構
64、光伏器件、其形成方法以及等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統
65、以軟性含氮等離子體來形成超薄柵介電層的方法
66、抗生物膜形成的低溫等離子體涂層
67、薄膜形成方法、具有薄膜的物品、光學膜、介電體覆蓋電極及等離子體放電處理裝置
68、利用等離子體的耐腐蝕親水性多層膜形成的方法
69、通過從等離子體沉積形成膜的方法和設備
70、通過從等離子體沉積形成膜的裝置
71、通過從等離子體沉積而形成膜的方法
72、感光性密封層形成用玻璃糊劑及使用其的等離子體顯示器的制造方法、以及等離子體顯示器
73、通過等離子體CVD方法形成沉積膜的裝置和方法
74、用等離子體浸沒離子注入方法在材料表面形成TiO2-x薄膜的方法及其應用
75、用等離子體浸沒離子注入方法在材料表面形成TiO2-x薄膜的方法及其應用
76、包括等離子體處理形成的涂層的防火型聚酰胺物品
77、對等離子體顯示器面板的基板形成保護膜的方法以及該保護膜的形成裝置
78、藉由等離子體增強化學氣相沉積使用含有具有機官能基的硅的雜化前驅物所形成的超低介電材料
79、表面處理方法、由碳化硅形成的部件和等離子體處理裝置
80、使用等離子體處理的部件形成方法
81、等離子體顯示面板和形成等離子體顯示面板的障肋的方法
82、等離子體顯示面板用隔壁形成材料和隔壁形成材料用玻璃組合物
83、形成保護層的材料、保護層及等離子體顯示面板
84、由電弧等離子體高速淀積法形成的保護涂層
85、由電弧等離子體高速淀積形成保護涂層的方法
86、等離子體處理腔室中原位紫外線處理方法及應力氮化硅膜的形成方法
87、濾光器、包括其的等離子體顯示器、及其形成方法
88、用于形成電極的組成物電極及等離子體顯示面板
89、光敏性糊劑組合物及用其形成等離子體顯示屏障壁的方法
90、氮化硅膜的形成方法、非易失性半導體存儲裝置的制造方法、非易失性半導體存儲裝置和等離子體處理裝置
91、黑色矩陣形成用光固化性樹脂組合物、使用該組合物的感光性膜、黑色矩陣的形成方法、黑色矩陣及具有該黑色矩陣的等離子體顯示面板
92、用于防止空隙形成的結構以及等離子體處理設備
93、感光性導電糊劑及使用其形成的電極和等離子體顯示板
94、硅氧化膜的形成方法、等離子體處理裝置和存儲介質
95、硅氧化膜的形成方法,等離子體處理裝置以及存儲介質
96、微波等離子體處理裝置、其制造及使用方法、一體型槽形成部件
97、電介質層、其形成方法和包括電介質層的等離子體顯示板
98、等離子體顯示面板及其隔壁形成方法
99、電極形成組成物和利用該組成物制造的等離子體顯示面板
100、在二層結構匯流電極形成中使用的光固化性導電性糊劑、以及光固化性黑色糊劑和等離子體顯示器面板

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